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含有POSS基团光刻胶的主要类型介绍(环氧POSS光刻胶、重氮酮-POSS光刻胶及甲基丙烯酸酯-POSS光刻胶)
发布时间:2021-12-08     作者:axc   分享到:

多面体低聚倍半硅氧烷(polyhedraloligosils-esquioxane,POSS)结构如图1所示,它由无机硅氧笼型结构和外层的有机基团R构成,R为提高相容性与增溶作用的有机基团,X为含有一个或多个可参与聚合反应的活性基团。有机无机杂化结构使得POSS的热力学和化学性质都得到增强,具有良好的热稳定性、较高的玻璃化转变温度、良好的空间稳定性和机械性能,易于功能化修饰,将其作为核,引入体积较大的侧基后,用于制备光刻胶材料。含有POSS基团的光刻胶,材料抗蚀刻性非常强。

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POSS光刻胶的主要类型

环氧POSS光刻胶

将环氧环己基接入到POSS(如图2所示),制备了一种负性光刻胶,加入光产酸剂( photoacid generator,PAG),利用干涉光刻技术,经两束波长为532 nm的干涉光曝光后,环氧基团.

受酸催化后发生交联反应,经后烘、显影等过程,获得了分辨率为300 nm、深宽比为10的图形,具体过程如图3所示

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甲基丙烯酸酯-POSS光刻胶

甲基丙烯酸酯类聚合物因其良好的透明性,常被用作193 nm光刻胶材料,而POSS基团在193nm处没有吸收,因此研究者将POSS基团接入到甲基丙烯酸酯的共聚物中,以提高光刻胶的耐蚀刻性,

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重氮酮-POSS光刻胶

一种非化学增幅型的正性光刻胶-重氮酮官能化的POSS我们POSS插入到重氮酮化合物中以增强光刻胶的热稳定性和力学性能,通过重氮酮官能团在紫外灯照射下发生Wolff重排,生成一个羧基基团,从而改变了溶解度。合成路线如下图所示。CDEOPE POSS经深紫外光曝光后,无需后烘,就可以获得分辨率为0.7 μm的图形

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POSS具有稳定的纳米笼形结构,可用作.光致抗蚀剂的增强材料。含有POSS结构的光刻胶具有良好的热稳定性、空间和结构稳定性及突出的抗等离子蚀刻性能等优点,因此,POSS改性的聚合物材料在光刻胶领域中具有很好的应用前景。

以下是齐岳生物供应的poss材料产品目录:

http://www.qiyuebio.com/product/36380

八苯基笼状聚倍半硅氧烷

http://www.qiyuebio.com/product/397

八异丁基笼状聚倍半硅氧烷 Octaisobutyl POSS

http://www.qiyuebio.com/product/395

八十七氟癸基笼状聚倍半硅氧烷poss

http://www.qiyuebio.com/product/84604

八辛基笼状聚倍半硅氧烷

http://www.qiyuebio.com/product/84608

八十二烷基笼状聚倍半硅氧烷

http://www.qiyuebio.com/product/84609

八环氧环己基乙基笼状聚倍半硅氧

http://www.qiyuebio.com/product/84610

温馨提示:西安齐岳生物科技有限公司供应的产品仅用于科研,不能用于人体和其他商业用途axc

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