【产品介绍】：

产品名称 四（乙基甲基氨基）铪 英文名称 Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium 规格或纯度 99%,99.99%-Hf, <0.15% Zr TEMAH 法律信息 Available prepacked in ALD cylinder- see 98-4048.\n\nVolatile precursor for the ALD, CVD and MOCVD deposition of hafnium oxide.CAS编号 352535-01-4 敏感性 对湿度敏感 熔点 <-50 °C 沸点 78 °C MDL号 MFCD03427130 密度 1.324 分子式 C12H32HfN4 Smiles CCN(C)[Hf](N(C)CC)(N(C)CC)N(C)CC PubChem CID 4103752 INCHI 1S/4C3H8N.Hf/c4*1-3-4-2;/h4*3H2,1-2H3;/q4*-1;+4 InChi Key NPEOKFBCHNGLJD-UHFFFAOYSA-N