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三维厚胶/电子束光刻胶/薄胶/Lift off光刻胶/光刻胶紫外正性光刻胶(齐岳定制)
发布时间:2021-01-26     作者:wyf   分享到:

三维厚胶/电子束光刻胶/薄胶/Lift off光刻胶/光刻胶紫外正性光刻胶(齐岳定制)

产品型号光源分辨率厚度(um)适用范围
厚胶 Thick ResistSU-8 GM10xx系列g/h/i-Line负性0.1um0.1-200具有较大的高宽比,透明度高,垂直度极好。
SU-8 Microchemg/h/i-Line负性0.5um0.5-650具有较大的高宽比,透明度高,垂直度极好。

g/h/i-Line正性1um1—30可用于选择性电镀电镀,深硅刻蚀等工艺。
NR26-25000Pg/h/i-Line负性
20-130厚度大,相对容易去胶。
电子束光刻胶型号光源类型分辨率厚度(um)适用范围
SU-8 GM1010电子束负性100nm0.1-0.2可用于做高宽比较大的纳米结构。
HSQ电子束负性6nm30nm~180nm分辨率较好的光刻胶,抗刻蚀。
XR-1541-002/004/006
HSQ Fox-15/16电子束负性100nm350nm~810nm分辨率较好的光刻胶,抗刻蚀。
PMMA(国产)电子束正性\\高分辨率,适用于各种电子束光刻工艺,较常用的电子束光刻正胶。
PMMA(进口)电子束正性\\MicroChem,各种分子量,适用于各种电子束光刻工艺,较常用的电子束光刻正胶。
薄胶型号光源类型分辨率厚度(um)适用范围
S18xx系列g-Line正性0.5um0.4-3.5较常用的薄光刻胶,分辨率高,稳定可靠。
SPR955系列i-Line正性0.35um0.7-1.6进口高分辨率(0.35um)光刻胶,稳定可靠。
BCI-3511i-Line正性0.35um0.5-2国产0.35um光刻胶,已经在量产单位规模使用。
NRD6015248nm负性0.2um0.7-1.3国产深紫外光刻胶,已经在量产单位规模使用。
Lift off光刻胶型号光源类型分辨率厚度(μm)适用范围
KXN5735-LOg/h/i-Line负性4μm2.2-5.2负性光刻胶;倒角65-80°,使用普通正胶显影液显影。
LOL2000/3000g/h/i-Line/NA130nm-300nm非感光性树脂,可以被显影液溶解,作为lift off双层胶工艺中底层胶使用。
ROL-7133g/h/i-Line/4um2.8-4负性光刻胶,倒角75~80°,使用普通正胶显影液。
光刻胶配套试剂品名主要成分包装应用//
正胶显影液TMAH 2.38%4LR/PC正胶显影液//
正胶稀释剂PGMEA4LR/PC稀释剂//
SU8 显影液PGMEA4L/PC显影SU8光刻胶//
RD-HMDSHMDS500ml/PC增粘剂//
OMNICOAT见MSDS500ml/PCSU-8增粘剂//

光刻胶——高精度光刻的关键

在半导体制造领域,上游微电子材料和设备是支撑该行业的关键部分。上游微电子材料包括半导体制造过 程中用到的所有化学材料,包括硅片、光刻胶及辅助材料、光掩模、CMP 抛光材料、工艺化学品、溅射靶材、 特种气体等。其中,光刻胶是占据极其重要地位的关键原材料。

光刻是将电路图形由掩膜版转移到硅片上,为后续刻蚀工艺做准备的过程。光刻是 IC 制造过程中耗时较长、 难度较大的工艺之一,耗时占 IC 制造 50%,成本占 IC 制造 1/3。在一次芯片制造中,往往要对硅片进行上十次 光刻,其主要流程为清洗、涂胶、前烘、对准、曝光、后烘、显影、刻蚀、光刻胶剥离、离子注入等。在光刻 过程中,需在硅片上涂一层光刻胶,经紫外线曝光后,光刻胶的化学性质发生变化,通过显影后,被曝光的光刻胶将被去除,电路图形由掩膜版转移到光刻胶上,再经过刻蚀工艺,实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。

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光刻胶是光刻工艺较重要的耗材,光刻胶的质量对光刻精度至关重要。光刻胶是指通过紫外光、准分子激 光、电子束、离子束、X 射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。由于光刻胶具有光化学 敏感性和防腐蚀的保护作用,因此经过曝光、显影、刻蚀等工艺,可以将微细电路图形从掩膜版转移到硅片。虽然光刻胶制造成本低,但是技术壁垒高,不可替代,难以保存。

光刻过程示意图

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光刻胶按照应用场景不同可分为半导体光刻胶、LCD 光刻胶、PCB 光刻胶。光刻胶处于半导体产业链的 材料环节,上游为基础化工材料和精细化学品行业,中游为光刻胶制备环节,下游为半导体制造,较后市场是 电子产品应用终端。

光刻胶的种类:

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光刻胶的主要成分有光刻胶树脂、感光剂、溶剂和添加剂。光刻胶树脂是一种惰性的聚合物基质,是用来 将其它材料聚合在一起的粘合剂;光刻胶的粘附性、胶膜厚度等特性都是由树脂决定的。感光剂是光刻胶的核 心部分,它对光形式的辐射能,特别是在紫外区光的辐射能会发生反应;曝光时间、光源所发射光线的强度都 和感光剂的特性直接相关。溶剂是光刻胶中容量大的成分;因为感光剂和添加剂都是固态物质,为了将他们 均匀地涂覆,要将它们加入溶剂进行溶解,形成液态物质,且使之具有良好的流动性,可以通过旋转方式涂布 在晶圆表面。添加剂可以用以改变光刻胶的某些特性,如可以通过添加染色剂来改善光刻胶,使其发生反射。

 

光刻胶的品种多种多样,基于感光树脂的化学结构,按技术可分为光聚合型、光分解型、光交联型三种。另外,正性和负性光刻胶是光刻胶的两个重要品类,光照后形成可溶物质的为正性胶,形成不可溶物质的为负 性胶。由于性能较优,正性光刻胶应用更广,但由于光刻胶需求量大,负性胶仍有一定的应用市场。

基础产品供应;

产品名称    cas    

1-丙烯酸金刚烷酯    121601-93-2    

1-金刚烷基甲基丙烯酸酯    16887-36-8    

丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯    7398-56-3    

4-乙酰氧基苯乙烯    2628-16-2    

1,3-金刚烷二醇单丙烯酸酯    216581-76-9    

2-甲基-2-金刚烷醇丙烯酸酯    249562-06-9    

2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯    303186-14-3    

1,3-金刚烷二醇二丙烯酸酯    81665-82-9    

2-氧代六氢-2H-3,5-亚甲基环戊二烯并[b]呋喃-6-基甲基丙烯酸酯    254900-07-7    

甲基丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸-8-基酯[    34759-34-7    

2-异丙基-2-金刚烷丙烯酸甲酯    297156-50-4    

2-异丙基-2-金刚烷醇丙烯酸酯    251564-67-7    

gamma-丁内酯-3-基异丁烯酸酯    130224-95-2    

N-异丙基甲基丙烯酰胺    13749-61-6    

(9H-芴-9,9-二基)双(亚甲基)二丙烯酸酯    583036-99-1    

(5-氧代四氢呋喃-2-基)甲基丙烯酸甲酯    156938-09-9    

1-乙基环戊基甲基丙烯酸酯    266308-58-1    

1-异丙基-1-环己醇甲基丙烯酸酯    811440-77-4    

2-甲基-2-丙烯酸4-羟基苯基酯    31480-93-0    

n-butyl2-(bromomethyl)prop-2-enoate    170216-64-5    

2-(溴甲基)丙烯酸甲酯    4224-69-5    

甲基丙烯酸-9-蒽甲酯    31645-35-9    

2-oxo-2-((2-oxohexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-6-yl)oxy)ethylmethacrylate[    347886-81-1    

2-乙烯基萘    827-54-3    

2-环己基丙烷-2-基甲基丙烯酸酯    186585-56-8    

2-甲基-丙烯酸2-氧代-四氢-呋喃-3-基酯    195000-66-9    

丙烯酸甲基环戊酯    178889-49-1    

丙烯酸1-乙基环戊酯    326925-69-3    

2-氧代四氢呋喃-3-基丙烯酸酯    328249-37-2    

4-叔丁氧基苯乙烯    95418-58-9    

4-(4-(丙烯酰氧基)丁氧基)苯甲酸    69260-42-0    

甲基丙烯酸-2,2,3,3,4,4,4-七氟代-丁酯    13695-31-3    

3-(4-vinylphenyloxy)-1-propene    16215-47-7    

acetic acid,4-ethenylbenzene-1,2-diol    57142-64-0    

1-(1-乙氧基乙氧基)-4-乙烯基苯    157057-20-0    

1-甲基环己基甲基丙烯酸酯    76392-14-8    

2-氧代-2-(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)乙基甲基丙烯酸酯    1176273-16-7    

2,5-二甲基己烷-2,5-二基双(2-甲基丙烯酸酯)    131787-39-8    

1-甲基环戊基甲基丙烯酸酯    178889-45-7    

1-乙基环己基甲基丙烯酸酯    274248-09-8    

4-异丙基苯酚    4286-23-1    

(2-oxo-1,3-dioxolan-4-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate    13818-44-5    

乙酸-2-乙烯基苯基酯    63600-35-1    

2-(金刚烷-1-基)丁-2-基甲基丙烯酸酯    325991-26-2    

1-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate    51920-52-6    

甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯    15895-80-4    

oxan-2-yl 2-methylprop-2-enoate    52858-59-0    

6-methacryloyl-6-azabicyclo[3.2.0]heptan-7-one    1267624-16-7    

3-叔丁氧基苯乙烯    105612-79-1    

2-丙烯酸3-(二乙氧基甲基甲硅烷基)丙基酯    13732-00-8    

2,3-二羟基丙烯酸丙酯    10095-20-2    

2-[(4-乙烯基苯氧基)甲基]环氧乙烷    2653-39-6    

3,5-二乙酰氧基苯乙烯    155222-48-3    

2-(2,2-二氟乙烯基)双环[2.2.1]庚烷    123455-94-7    

二苯基碘酰氯    1483-72-3    

双[4-(1,1-二甲基乙基)苯基]碘鎓与三氟甲磺酸的盐    84563-54-2    

全氟丁基磺酸三苯基锍盐    144317-44-2    

双(4-叔丁基苯基)氯化碘鎓    5421-53-4    

TBPDPS-PFBS    258872-05-8    

1二(4-叔丁基苯基)碘鎓全氟代丁烷磺酸盐    194999-85-4    

(4-苯基硫代苯基)二苯基锍三氟甲磺酸    111281-12-0    

N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸    85342-62-7    

上述产品齐岳生物均可供应!

wyf 01.26

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